Hochreines Wasserstoffgas

Farbloses, geschmackloses, geruchloses, ungiftiges brennbares Gas. Der Schmelzpunkt ist - 259,2 Grad und der Siedepunkt ist - 252 77 Grad, relative Dichte (O Grad, Luft =1) 0 06960. Gasdichte 0.08342kg. 111-3 (21,1 Grad, 101 3 kPa); Flüssigkeitsdichte 70. 96kg. n-3 (- 252,8 Grad, 101 3 kPa). Die kritische Temperatur beträgt 239,9 Grad und der kritische Druck 1,297 MPa. In etwa 50 Volumen Wasser bei 0 Grad auflösen. In hoher Konzentration wirkt es erstickend. Sehr leicht zu verteilen und einzudringen. Starkes Reduktionsmittel, eindringender Stahl, Wasserstoffversprödung. Das Wasserstoffmolekül besteht aus zwei Isomeren, und das Verhältnis von positivem und sekundärem Wasserstoff beträgt bei Raumtemperatur 75:25. Mit abnehmender Temperatur steigt der Anteil an sekundärem Wasserstoff, begleitet von der Freisetzung von Umwandlungswärme. 20. Bei 4K beträgt die Balance-Zusammensetzung 0,2:99,8. Wasserstoff ist ungiftig, aber er kann kein Leben erhalten. Es kann beim Mischen mit Luft ein explosives Gemisch bilden und bei Kontakt mit offenem Feuer und großer Hitze eine Verbrennung und Explosion verursachen. Es kann heftig mit Fluor, Chlor usw. reagieren. Während der Verbrennung ist keine Flamme zu sehen und es explodiert leicht, wenn es mit Luft, Sauerstoff, Chlor usw. gemischt wird. Die Selbstentzündungstemperatur beträgt 571,2 t. Die Entflammbarkeitsgrenze in Luft beträgt 4,0 % ~ 75,0 %.

Hochreiner Wasserstoff wird hauptsächlich bei der Herstellung von hochintegrierten Schaltkreisen verwendet, um eine reduzierende Atmosphäre als Basisgas für die Herstellung von SiH4/H2, PH3/H2, B2 H6/H2 und anderen Gasgemischen bereitzustellen. Auch im Produktionsprozess von Elektrovakuummaterialien und -geräten sind die Anforderungen an die Reinheit des Wasserstoffs sehr hoch. Die Anode, Kathode, das Gitter und andere Metallvorrichtungen der Elektronenröhre müssen einer speziellen Wasserstoffbrennbehandlung unterzogen werden. Darüber hinaus wird es als Schutzgas und Trägergas beim Epitaxieprozess von Silizium und Galliumarsenid verwendet.

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